Carl John Frosch (* 6. September 1908; † 18. Mai 1984)[1][2] war ein US-amerikanischer Chemiker, der an den Bell Laboratories 1955 mit seinem Techniker Lincoln J. Derick (genannt Link Derick) die Siliziumdioxid-Maskierung von Silizium-Halbleitern erfand, ein wichtiger Teil der Planartechnik zur Herstellung von integrierten Schaltungen[3] (siehe auch thermische Oxidation von Silizium).
- ↑ Carl J Frosch in der Datenbank Find a Grave, abgerufen am 13. Januar 2023.
- ↑ Nach Adressbuch, Summit, New Jersey, wohnte er zuletzt in Summit, New Jersey mit seiner Ehefrau Ruth
- ↑ 1955 – Development of Oxide Masking, Computer History Museum