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El proceso planar es un proceso de manufactura usado en la industria de semiconductores para construir componentes individuales de un transistor, y a su vez se conectaran a otros transistores. Este es el proceso principal con el cual los chips de circuito integrado de silicio son construidos. El proceso utiliza los métodos de pasivación y oxidación térmica.
El proceso planar fue desarrollado en Fairchild Semiconductor en el año 1959.