Ossido di alluminio | |
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Nome IUPAC | |
triossido di dialluminio | |
Nomi alternativi | |
allumina | |
Caratteristiche generali | |
Formula bruta o molecolare | Al2O3 |
Massa molecolare (u) | 101,94 g/mol |
Aspetto | solido bianco |
Numero CAS | |
Numero EINECS | 215-691-6 |
PubChem | 9989226 |
DrugBank | DBDB11342 |
SMILES | [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] |
Proprietà chimico-fisiche | |
Densità (g/cm3, in c.s.) | 3,94 (20 °C) |
Solubilità in acqua | ~ 0,001 g/l (20 °C) |
Temperatura di fusione | 2050 °C (2323 K) |
Temperatura di ebollizione | 2980 °C (3253 K) |
Indicazioni di sicurezza | |
Frasi H | --- |
Consigli P | ---[1] |
Il triossido di dialluminio (o allumina[2]) è l'ossido ceramico dell'alluminio caratterizzato da formula chimica Al2O3. Questo materiale, all'apparenza molto fragile e poco utilizzabile, risulta invece fondamentale in campo industriale, per le sue proprietà quali la resistenza agli acidi, l'elevata conducibilità termica, e la scarsa conducibilità elettrica, ed è anche catalizzatore d'interesse industriale.
Viene utilizzato in moltissimi campi, quali l'industria dei laterizi, dei refrattari e delle ceramiche, l'elettronica e la meccanica, oltre a essere usato nella biomedica come materiale di innesto. È la base di alcuni minerali come rubino e zaffiro, che si differenziano a seconda delle impurezze metalliche presenti nel reticolo cristallino. A temperatura ambiente si presenta come un solido bianco inodore. Dal punto di vista elettrico è un isolante. Viene utilizzato nella crescita epitassiale di dispositivi elettronici come substrato, considerando il buon matching reticolare che consente con alcuni dei semiconduttori più utilizzati.