Fotolitografia

Fotolitografia – proces pochodzący z technologii półprzewodnikowej polegający na odtworzeniu wzorów np. fotomasek na podłożu np. półprzewodnikowym. Celem wykonywania fotolitografii jest wykonanie jakiegoś rodzaju struktury o określonym wzorze. Zasada działania fotolitografii jest podobna do litografii w poligrafii.

Proces fotolitografii jest zazwyczaj wieloetapowy i składa się kolejno z:

1. Przygotowania powierzchni (odtłuszczenie i wygrzanie).
2. Nałożenia fotorezystu.
3. Wygrzewania warstwy fotorezystu (płytkę z nałożonym fotorezystem wygrzewa się przez pewien czas w suszarce lub na płycie grzewczej).
4. Naświetlenia (zwykle do płytki z fotorezystem przykładana jest fotomaska, przez którą naświetla się promieniowaniem ultrafioletowym fotorezyst). Jako źródła światła używa się zazwyczaj lampy rtęciowej (linia I – 365 nm) bądź lasera ekscymerowego.
5. Wywołania (w tym etapie następuje usunięcie części fotorezystu, w przypadku fotorezystu pozytywowego następuje usunięcie naświetlonych obszarów, w przypadku fotorezystu negatywowego – nienaświetlonej części, producenci fotorezystów dostarczają zazwyczaj wywoływacze, których pełny skład jest tajemnicą firmy, często jednak zawierają one NaOH).
6. Trawienia podłoża lub tworzenia dodatkowych warstw np. metalicznych czy tlenkowych (w miejscach, gdzie nie ma fotorezystu, podłoże zostaje wytrawione lub powstaje dodatkowa warstwa).
7. Usunięcia pozostałego fotorezystu z powierzchni płytki.